陶瓷基片爐具有高穩(wěn)定性、高人性化、低維護(hù)的特點(diǎn)，采用非接觸式高溫測(cè)量、真空系統(tǒng)過(guò)濾保護(hù)、獨(dú)特尾氣處理設(shè)計(jì)。主要用于氮化硅/氮化鋁流延基片等先進(jìn)材料進(jìn)行真空，脫氣、加壓致密化等，廣泛應(yīng)用于航天航空、電子電器半導(dǎo)體等領(lǐng)域。